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        鍍鎳系列產品

        Nickel plating

        名稱:裝飾性光亮度鉻工藝

        裝飾性光亮度鉻工藝

        ※產品特點

        1、 走位能力強,適用于形狀復雜工件的鍍鉻

        2、 工作溫度范圍較寬,38-50℃均可正常工作;

        3、 陰極電流效率高,沉積速度快,可采用較高的電鍍密度操作;

        4、 鍍液對工件活化能力強,不易發花;

        5、 對雜質容忍度高,工藝穩定,容易控制。

        鍍液組成和工藝條件

        鉻    酐 

        鉻酐/硫酸 

        鉻酐/三價鉻

        150250g/L

        150-250 1 

        100-150 1

        220g/L

        200 1

        100 -150 1

        鉻走位劑

         812ml/L

        10ml/L

        溫  度   

        鍍液波美度  

        陰極電流密度 

        38  50 

        19  23

        10  20 安培/平方分米

         42 -45 

        19  23 

        15 安培/平方分米

        設備要求

        1、 整流器: 要保證足夠的容量,波紋系數 < 5% ; 否則會影響深鍍能力;

        2、 陽極應采用鉛錫合金或鉛銻合金,陰極和陽極面積比為 2-3;

        鍍液配制方法

        1、 在清洗過的鍍槽內加入三分之二的蒸餾水或去離子水,并加熱到40℃;

        2、 將計算量的鉻酐緩慢加入槽內,攪拌使其全部溶解;

        3、 將鉻走位劑加入鍍液內,再將水量調至工作液面,并攪拌均勻;

        4、,分析溶液中硫酸含量,再根據溶液中鉻酐和硫酸的比例,補加硫酸;

        5、 采用大陰極、小陽極面積電解處理槽液,以產生所需量的三價鉻,也可添加雙氧水或灑精,但要十分小心;

        6、 試鍍工件,觀察溶液的覆蓋能力和鍍層的亮度,若符合要求即可投入生產


        添加劑的作用

        鉻走位劑 它是混合型的催化劑,可顯著提高低電位區的覆蓋能力,還可提高電鍍的沉積速度;

        鍍液維護

        1、 硫酸: 鍍液中的硫酸含量極為重要,過高的硫酸含量會使走位變差,低電位區發黃;過低的硫酸會使鉻層起彩;

        2、 三價鉻:三價鉻太高會使電流效率下降,走位也變差,高區還會發暗或燒焦。太低的三價鉻則不能電鍍出正常的鉻鍍層。

        3、 溫度:溫度太低會使鍍層發花或發霧,太高則使鍍液濃度上升太快;

        4、 其它雜質影響:

        氯離子:氯離子對鍍鉻極為有害,它會使鍍層發花或發霧,可采用電解方法去除;鐵離子:少量的鐵離子影響不大,但超過10/升會使走位能力明顯下降,特別是同時含有鎳、銅、鋅等金屬雜質時,影響更嚴重。太多的鐵和其它金屬雜質可采用素燒陶瓷電解,或稀釋鍍液的方法解決故障。

        3、 鉻走位劑光亮劑的補充:

        一般情況下,鉻走位劑應與鉻酐同時補充,每添加100公斤鉻酐需要補充4-5升的鉻走位劑如果是原來沒有用走位劑的鉻槽轉缸時,應加入適量的碳酸鋇將槽中硫酸含量降低到1/升左右,再加入鉻走位劑

         

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